본 연구에서는 반도체 및 디스플레이 생산설비에서 발생하는 암모니아와 염산을 충진탑을 이용해 제거 하는 실험을 수행 하였다.
전체적인 규격을 줄이면서 기존방식과 동등이상의 효율을 확보 할 수 있는 설계인자 도출을 위하여 유속, 액기비, pH별 제거 성능을 도출 하였다. 압력손실을 측정하여 비교하는 과정을 거쳐 기존 Wet Scrubber의 문제점을 파악하고 이를 실제 반영 할 수 있도록 하였다.
가스 처리 속도는 전체 설비의 규격에 영향을 주며, 이를 변화 시켜 효율에 어떻게 영향을 주는지와 설비의 압력손실이 어떻게 변하는지 확인하여 최적화를 검토하였다.
세정수의 양을 조절하여 액기비별 효율 변화와 압력손실의 변화를 비교하고 실제 설비의 설계에 어떻게 영향을 주는지 확인하였다.
흡수탑의 이동단위고 설계시 액적의 pH를 반영하지 않은 경우 과설계가 되어 본 실험에서는 pH를 일정하게 조절하여 문헌자료와 차이를 확인하고 이를 바탕으로 적정 규격을 산정하여 거품 발생과 이로 인한 폐쇄 현상에서 오는 문제를 방지 할 수 있는 방안을 검토하여 규격을 산정하였다.