TFT-LCD기판 불량 수리를 위한 Femtosecond LASER공정

Abstract

본 논문은 TFT-LCD기판 제조과정 중 발생하는 휘점 불량에 대한 Femtosecond LASER가공 처리를 통해 수리하는 공정 개발을 다룬다. 먼저 연관 기술의 특허 현황을 선행 조사함으로써 흑화층을 형성시키는 신규 LASER공정 개발의 실마리를 풀 수 있었다. TFT-LCD박막 가공에 적절한 LASER Ablation장치를 설계하고 각각의 박막을 물성적으로 흑화하는 또는 선택적으로 가공하는 평가(Selective Ablation)를 하였다. 실험의 결과로 Color Filter박막을 LASER가공처리할 경우에는 액정오염성 Outgasing으로 Spot 발생이 관찰되었다. 반면에 TFT 다중 Layer를 LASER가공처리할 경우에는PolyImide로부터 생성된 흑화층(Carbon)과 비정질적으로 결정화된 Silicon의 화합물에 의해 차광 현상이 관찰되었다. 결론적으로 설계한 LASER 가공장치가 휘점 불량의 차광수리에 유효하게 작동한다는 점이 입증되었다. 또한 신규 기술의 특허출원으로 사업화 이후에 기술분쟁이나 후발업체의 기술도용 등을 방지할 수 있게 되었다.