60nm급 포토 리소그래피 공정에서의 광원의 편광과 조리개 패턴의 영향에 관한 연구
DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.advisor | 김상인 | - |
dc.contributor.author | 정동식 | - |
dc.date.accessioned | 2019-10-21T07:22:42Z | - |
dc.date.available | 2019-10-21T07:22:42Z | - |
dc.date.issued | 2014-02 | - |
dc.identifier.other | 16203 | - |
dc.identifier.uri | https://dspace.ajou.ac.kr/handle/2018.oak/18357 | - |
dc.description | 학위논문(석사)--아주대학교 IT융합대학원 :IT융합공학과,2014. 2 | - |
dc.description.tableofcontents | 1장. 서론 1 1-1.연구 배경 1 2장. 도포 공정의 감광처리 3 2-1 도포공정의 감광제의 특성 3 2-2 회전속도에 따른 두께변화 실험 5 2-3 도포 실험 요약 7 3장. 광 마스크 제조 (노광 시스템)의 특성 연구 8 3-1 편광의 특성 8 3-2 편광의 종류 9 3-3 빛의 편광 – 편광자 13 3-4 복 굴절의 특성 15 3-5 편광 효과 16 4장. 리소그래피을 이용한 조명 조건별 패턴 특성 연구 19 4-1 Numerical Aperture에 따른 DoF(Depth of focus)평가 20 4-2 Un-Polarization/XY-Polarization Source에 대한 DoF평가 22 4-3 조명 Mode에 따른 Pattern 영향 성 23 4-4 조명 Mode에 따른 Depth of Focus 영향성 평가 24 5장. 결론 26 참고문헌 27 | - |
dc.language.iso | kor | - |
dc.publisher | The Graduate School, Ajou University | - |
dc.rights | 아주대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다. | - |
dc.title | 60nm급 포토 리소그래피 공정에서의 광원의 편광과 조리개 패턴의 영향에 관한 연구 | - |
dc.type | Thesis | - |
dc.contributor.affiliation | 아주대학교 IT융합대학원 | - |
dc.contributor.department | IT융합대학원 IT융합공학과 | - |
dc.date.awarded | 2014. 2 | - |
dc.description.degree | Master | - |
dc.identifier.localId | 608203 | - |
dc.identifier.url | http://dcoll.ajou.ac.kr:9080/dcollection/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000016203 | - |
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