반도체 웨이퍼 건조기의 기류특성에 관한 수치적 연구

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dc.contributor.advisor김현정-
dc.contributor.author제찬호-
dc.date.accessioned2019-10-21T07:12:55Z-
dc.date.available2019-10-21T07:12:55Z-
dc.date.issued2010-02-
dc.identifier.other10758-
dc.identifier.urihttps://dspace.ajou.ac.kr/handle/2018.oak/17352-
dc.description학위논문(석사)--아주대학교 산업대학원 :기계공학과,2010. 2-
dc.description.abstract반도체 산업에서 회로의 고밀도화, 고집적화가 급속도로 진전 되고 있으며 이로 인해 웨이퍼 표면에 부착되는 오염물의 크기가 미세해 지고 청정도 수준은 엄격해 지고 있으며, 세정에 대한 요구도 더욱 엄격해 지고 있다. 본 연구는 웨이퍼의 세정 후속 공정으로 진행되는 건조과정에서 사용 되어 지는 여러 건조장비 중에서 IPA(isopropyl alcohol) 증기 건조기의 내부 유동 및 건조 특성을 파악하는 것이 주된 목적이다. 본 연구를 수행함에 있어 상용 CFD 툴인 FLUENT를 이용 하였고, IPA 운반 가스인 의 유량과 분사각도 및 출구 각도에 따른 건조기 내부와 웨이퍼 주위의 유동을 관찰함과 동시에 웨이퍼 표면의 평균 유속 및 위치별 속도 편차를 분석 하였다.-
dc.description.tableofcontents1. 서론 1 2. 수치해석 방법 2 2.1 지배 방정식 2 2.2 수치해석 기법 3 2.3 해석 모델 5 2.3.1 형상 모델링 5 2.3.2 격자 생성 8 2.4 해석 조건 11 2.4.1 경계 조건 11 2.4.2 분석 방법 12 3. 결과 및 검토 14 3.1 현 수준 분석 14 3.2 설계인자에 의한 영향 분석 15 3.3 웨이퍼 표면 속도 분석 16 4. 결론 17 참고문헌 18 Figures 19 Abstract 71-
dc.language.isokor-
dc.publisherThe Graduate School, Ajou University-
dc.rights아주대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.-
dc.title반도체 웨이퍼 건조기의 기류특성에 관한 수치적 연구-
dc.title.alternativeA Numerical Study on the Flow Characteristic of Semiconductor Wafer Cleaning Apparatus-
dc.typeThesis-
dc.contributor.affiliation아주대학교 산업대학원-
dc.contributor.alternativeNamechanho,je-
dc.contributor.department산업대학원 기계공학과-
dc.date.awarded2010. 2-
dc.description.degreeMaster-
dc.identifier.localId568303-
dc.identifier.urlhttp://dcoll.ajou.ac.kr:9080/dcollection/jsp/common/DcLoOrgPer.jsp?sItemId=000000010758-
dc.subject.keywordIPA dry-
dc.subject.keyword반도체-
dc.subject.keyword웨이퍼-
dc.subject.keyword건조기-
dc.subject.keyword기류특성-
Appears in Collections:
Special Graduate Schools > Graduate School of Science and Technology > Department of Mechanical Engineering > 3. Theses(Master)
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