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AJOU Central Library Repository

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2011-02C4F6/Ar/O2 플라즈마에서 CH2F2 첨가에 따른 SiO2와 Si3N4의 식각속도 및 식각선택비의 각도의존성조성운
2015-08New plasma etching techniques for control over Si and SiO2 etch profiles조성운
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